行业动态

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备

湿法去胶机厂家浅谈涂胶显影设备共分为四个方面：

（1）涂胶显影设备分类

涂胶和显影是光刻前后的重要办法
，设备以差别工艺所用的光刻胶、要害尺寸等方面的差别来分类
。

（2）涂胶显影设备市场空间和花样

2021年全球前道涂胶显影设备销售额为 20亿美元
，预计到 2022 年有望凌驾 25 亿美元
。

（3）涂胶显影设备的行业和技术特点

显影的精度即为光刻的精度
，因此涂胶显影设备对要害制程的形成也十分重要
。

涂胶显影设备涉及机械、化学、热处理等多方面技术
。

除了前道的 EUV 光刻带来的高端增量以外
，相对低端后道封测、LED 制造等用的涂胶显影设备也保存市场增量
。

（4）涂胶显影设备海内现状

用于前道晶圆制造的涂胶显影设备尚处于新进阶段
，产品有发往上；Α⒊そ 储、中心绍兴、上；等多个客户验证
，有部分产品通过验证并获得订单
。目前的主要产品为用于后道先进封装和 LED 制造等的涂胶显影设备
，产品进入主流大客户
。